掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時(shí)間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好，對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強(qiáng)、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對(duì)樣品表面進(jìn)行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評(píng)估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f，該設(shè)備的sem鏡筒中采用了超級(jí)混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統(tǒng)，在1kv低加速電壓下,實(shí)現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進(jìn)行高分辨率觀察和高速分析。
更新時(shí)間:2025-07-02
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進(jìn)行更廣泛的分析。
更新時(shí)間:2025-07-02
德neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統(tǒng)成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢，采用專利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì)，完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí)，由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源（thz-tds），也可以實(shí)現(xiàn)近場太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測量。
更新時(shí)間:2025-07-02
jsm-it800shl 是日本電子株式會(huì)社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統(tǒng)，同時(shí)將分辨率提高到新的限，全新設(shè)計(jì)的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時(shí)完成，而且標(biāo)配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時(shí)間:2025-07-02
日本電子熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡適用于納米材料、化學(xué)、新材料、半導(dǎo)體器件的觀察和分析。
更新時(shí)間:2025-07-01
超聲掃描顯微鏡（sat）是一種利用超聲波為傳播媒介的無損檢測成像設(shè)備，主要利用高頻超聲波，對(duì)各類半導(dǎo)體器件、材料進(jìn)行檢測，能夠檢測出樣品內(nèi)部的氣孔、裂紋、夾雜和分層等缺陷，并以圖形的方式直觀展示。在掃描過程中，不會(huì)對(duì)樣品造成損傷，不會(huì)影響樣品性能，可有效滿足新能源、半導(dǎo)體、電力電子、熱管理材料、金剛石復(fù)合材料、碳纖維復(fù)合材料等行業(yè)需求。
更新時(shí)間:2025-07-01
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件，可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集，并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-07-01
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù)，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實(shí)時(shí)疊加，在成像同時(shí)提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時(shí)間:2025-07-01
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡chemiphase物相分析軟件更容易，更全面，更準(zhǔn)確的物相分析
更新時(shí)間:2025-07-01
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強(qiáng)大的"zeromag"功能，讓您從光學(xué)顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實(shí)現(xiàn)了sem影像觀察時(shí)實(shí)時(shí)的eds成份分析。
更新時(shí)間:2025-06-30
sem5000x是一款超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡，其分辨率達(dá)到了突破性的0.6 nm@15 kv和1.0 nm@1 kv。高分辨物鏡設(shè)計(jì)、高壓隧道技術(shù)（supertunnel）以及鏡筒工藝升，實(shí)現(xiàn)了低電壓分辨率的進(jìn)一步提升。全新設(shè)計(jì)的樣品倉，擴(kuò)展接口增加至16個(gè)，快速換樣倉大支持8寸晶圓（大直徑208 mm），大擴(kuò)展應(yīng)用范圍。高掃描模式和自動(dòng)功能增強(qiáng)，帶來了更強(qiáng)的性能和更好的體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-30
db500擁有自主可控的場發(fā)射電子鏡筒和“承影”離子鏡筒，是一款優(yōu)雅全能的納米分析和制樣工具。高壓隧道技術(shù)（supertunnel）、低像差無漏磁物鏡設(shè)計(jì)，低電壓高分辨率成像，保證納米分析能力！俺杏啊彪x子鏡筒采用液態(tài)鎵離子源，擁有高穩(wěn)定、高質(zhì)量的離子束流，保證納米加工能力。集成式的納米機(jī)械手、氣體注入器、電子物鏡防污染機(jī)構(gòu)，擁有24個(gè)擴(kuò)展口，配置全面，自主可控，擴(kuò)展性強(qiáng)，為您打造全能納米分析和加
更新時(shí)間:2025-06-30
國儀量子場發(fā)射掃描電鏡sem5000，可實(shí)現(xiàn)低電壓高分辨成像，磁性樣品也可適用，豐富的接口，滿足多樣的需求，精心設(shè)計(jì)的人機(jī)交互方便操作，快速上手
更新時(shí)間:2025-06-30
sem3200是一款高性能、應(yīng)用廣泛的通用型鎢燈絲掃描電子顯微鏡。擁有出色的成像質(zhì)量、可兼容低真空模式、在不同的視場范圍下均可得到高分辨率圖像。大景深，成像富有立體感。豐富的擴(kuò)展性，助您在顯微成像的中盡情探索。
更新時(shí)間:2025-06-30
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時(shí)具有低真空功能，可以直接觀察不導(dǎo)電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺(tái)可以快速、高效的完成觀察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-06-30
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-06-30
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時(shí)具有低真空功能，可以直接觀察不導(dǎo)電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺(tái)可以快速、高效的完成觀察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-06-30
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-06-30
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對(duì)樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-06-30
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時(shí)間:2025-06-27
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-06-27
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-27
phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
更新時(shí)間:2025-06-27
放大倍數(shù)：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時(shí)ceb6燈絲抽真空時(shí)間：10；樣品移動(dòng)方式：自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)樣品定位方式：光學(xué)和低倍電子雙重導(dǎo)航樣品導(dǎo)電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時(shí)間:2025-06-27
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-27
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-27
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-27
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-06-27
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)；诟吡炼 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，phenom pure 的分辨率輕松達(dá)到 10 nm，同時(shí)具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-06-27
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-06-27
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-06-27
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-06-27
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-06-27
飛納高分辨率業(yè)版 phenom pro 是飛納電鏡系列中先進(jìn)的產(chǎn)品，第五代 phenom pro 放大倍數(shù)提升為 150,000 倍，分辨率優(yōu)于 8 nm，30 快速得到表面細(xì)節(jié)豐富的高質(zhì)量圖像
更新時(shí)間:2025-06-27
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用 的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全 快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-06-27
飛納電鏡能譜一體機(jī) phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時(shí)間:2025-06-27
這種新型的冷場發(fā)射電子槍采用日立專利的“柔性閃爍”“mild flashing”技術(shù)和全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)，在發(fā)射極尖端極大限度減少氣體分子附著。 發(fā)射極始終運(yùn)行于“潔凈”的狀態(tài)，發(fā)射電流和電子束穩(wěn)定性顯著提升。 即使在低加速電壓下，也可以得到高信噪比的sem信號(hào)并進(jìn)行高分辨觀察。 這些增強(qiáng)性能開辟了低電壓下元素微量分析的全新里程。
更新時(shí)間:2025-06-25
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