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光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家

DektakXT布魯克臺(tái)階儀-探針式表面輪廓儀

布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。

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TESA 2000美AZ太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率測(cè)量?jī)x

美az 總輻射度/太陽(yáng)能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽(yáng)吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。

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KL-28B/28BF日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器

日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）

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KS-16,KS-16F日本RION 液體光學(xué)顆粒度儀

日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm

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KS-17B日本RION 液體光學(xué)顆粒度儀

日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）

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KS-19F日本理音RION液體光學(xué)顆粒度儀

日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。

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KC-24日本RION粒子計(jì)數(shù)器

日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體�？蓽y(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24

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KS-41A日本RION液體光學(xué)顆粒度儀

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm

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KS-18F日本RION液體光學(xué)顆粒度儀

日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子

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KS-42A,KS-42AF日本RION液體光學(xué)顆粒度儀

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。

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KS-42B,KS-42BF日本RION液體光學(xué)顆粒度儀

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。

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KS-42C日本RION液體光學(xué)顆粒度儀

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。

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KS-20F日本理音RION粒子計(jì)數(shù)器

日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道

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KC-01E日本理音RION粒子計(jì)數(shù)器

日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm

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KC-03B日本理音RION粒子計(jì)數(shù)器

日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm

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電線電纜測(cè)量投影儀，絕緣護(hù)套測(cè)量?jī)x

電線電纜測(cè)量投影儀，絕緣護(hù)套測(cè)量?jī)x是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器，適用于以二坐標(biāo)測(cè)量為目的的一切應(yīng)用領(lǐng)域,機(jī)械、電子、儀表、塑膠等行業(yè)廣泛使用，符合gb/t2951.1《電纜絕緣和護(hù)套材料通用方法》標(biāo)準(zhǔn)要求。

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DSC 300德國(guó)NETZSCH差示掃描量熱儀

差示掃描量熱儀dsc 300 ，是全面、可靠的dsc儀器系列，表征材料熱性能游刃有余。

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LFA 467 HyperFlash德國(guó)NETZSCH 閃射法導(dǎo)熱儀

lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案

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Model 659OAI UV METER

oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor

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TFXRD-300/200日本理學(xué)X射線衍射儀

日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200，適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)

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TFXRD-300/200日本理學(xué)X射線衍射儀

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低倍測(cè)量投影儀，線纜光學(xué)投影儀，數(shù)字式電纜測(cè)量投影儀

低倍測(cè)量投影儀，線纜光學(xué)投影儀，數(shù)字式電纜測(cè)量投影儀被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。

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機(jī)械式輪廓測(cè)量投影儀參數(shù)，線纜絕緣厚度測(cè)量投影儀價(jià)格，電纜外被測(cè)量投影儀市場(chǎng)價(jià)格

機(jī)械式輪廓測(cè)量投影儀參數(shù)，線纜絕緣厚度測(cè)量投影儀價(jià)格，電纜外被測(cè)量投影儀市場(chǎng)價(jià)格是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門(mén)的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車(chē)間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。

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影像測(cè)量?jī)x參數(shù)，二次元影像測(cè)量?jī)x的價(jià)格，二次元測(cè)量?jī)x特點(diǎn)

影像測(cè)量?jī)x參數(shù)，二次元影像測(cè)量?jī)x的價(jià)格，二次元測(cè)量?jī)x特點(diǎn)主要是彌補(bǔ)了傳統(tǒng)投影儀的不足，采用攝像機(jī)將待測(cè)物體拍攝成圖像，再傳輸?shù)诫娔X，然后用專(zhuān)業(yè)的影像測(cè)量軟件，便能高效檢測(cè)各種復(fù)雜工件的輪廓、表面形狀尺寸、角度及位置。

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線纜檢測(cè)測(cè)量投影儀，工件輪廓測(cè)量投影儀，線纜投影儀的參數(shù)

線纜檢測(cè)用投影儀，輪廓檢測(cè)投影儀，絕緣護(hù)套檢測(cè)投影儀被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。

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RTMALD實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀

sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。

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R1德國(guó)Optosol 涂層吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀

德國(guó)optosol r1 涂層吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，用于測(cè)量管狀或平面太陽(yáng)能吸收涂層的定向熱發(fā)射度，其基礎(chǔ)是測(cè)量來(lái)自擴(kuò)展熱源的紅外輻射的反射率操作溫度:70 - 90°c

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K3德Optosol太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀

德optosol-k3 太陽(yáng)能吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，k3型發(fā)射率檢測(cè)儀由一個(gè)被加熱到70℃的發(fā)光體（作為熱輻射源）和三個(gè)對(duì)波長(zhǎng)在8-14μm范圍的光線敏感的探測(cè)器組成。來(lái)自發(fā)光體的輻射均勻分布在用作漫射輻射源的積分球內(nèi)。檢測(cè)器以與樣品表面法線成12°的角度安裝。被測(cè)量的是由樣品反射回來(lái)的輻射。

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Absorber Control K1德國(guó)Optosol 太陽(yáng)能平板集熱器膜層吸收與發(fā)射率快速測(cè)量?jī)x

optosol absorber control k1 太陽(yáng)能平板集熱器膜層吸收與發(fā)射率快速測(cè)量?jī)x，

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TriSOL AAA美國(guó)OAI標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)能模擬器

trisol aaa美國(guó)oai標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)能模擬器，低成本，標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器提供高度準(zhǔn)直，均勻的光，幾乎任何材料或產(chǎn)品暴露在陽(yáng)光下長(zhǎng)時(shí)間或短時(shí)間的基本測(cè)試。根據(jù)配置，這些太陽(yáng)能模擬器的輸出功率為350w-5,000w。

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TSS-52,TSS-100,TSS-156,TSS-208,TSS-300美國(guó)OAI太陽(yáng)能模擬器

tss-52,tss-100,tss-156,tss-208,tss-300美國(guó)oai太陽(yáng)能模擬器，這些模擬器,取決于配置、輸出額定350 w -5000 w。oai 3 a太陽(yáng)模擬器可以提供一個(gè)范圍的空氣質(zhì)量過(guò)濾器復(fù)制太陽(yáng)能模擬太陽(yáng)的光譜。目的探明oai透鏡和鏡像技術(shù)可以使一個(gè)廣泛的接觸區(qū)域。

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AE1/RD1美國(guó) D&S 發(fā)射率測(cè)量?jī)x

美國(guó) d&s 發(fā)射率測(cè)量?jī)x ae1/rd1，是專(zhuān)門(mén)針對(duì)測(cè)量物體的輻射率設(shè)計(jì)的，ae1測(cè)量樣品最小直徑為2.25英寸（5.7cm）�？蛇x附件ae-ad1和ae-ad3探測(cè)頭能使測(cè)量樣品最小直徑為1.0英（2.54cm），可以為圓柱形表面和幾乎任何幾何形狀面需求的客戶提供定制探頭。對(duì)小直徑圓柱形面樣品測(cè)量，可以測(cè)量平行放置的多個(gè)樣品。

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AutoWafe Pro.美國(guó)SONIX 晶圓檢測(cè)設(shè)備

美國(guó)sonix 晶圓檢測(cè)設(shè)備 autowafe pro.為全自動(dòng)晶圓檢測(cè)設(shè)計(jì)的機(jī)型，主要應(yīng)用在bond wafer，mems 內(nèi)部空洞、離層檢測(cè)，tsv量測(cè)方面。

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影像測(cè)量?jī)x，二次元影像測(cè)量?jī)x，二次元測(cè)量?jī)x

影像測(cè)量?jī)x，二次元影像測(cè)量?jī)x，二次元測(cè)量?jī)x主要是彌補(bǔ)了傳統(tǒng)投影儀的不足，采用攝像機(jī)將待測(cè)物體拍攝成圖像，再傳輸?shù)诫娔X，然后用專(zhuān)業(yè)的影像測(cè)量軟件，便能高效檢測(cè)各種復(fù)雜工件的輪廓、表面形狀尺寸、角度及位置。

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線纜絕緣層測(cè)量投影儀哪家好，輪廓測(cè)量投影儀的價(jià)格，絕緣護(hù)套檢測(cè)投影儀多少錢(qián)

線纜絕緣層測(cè)量投影儀哪家好，輪廓測(cè)量投影儀的價(jià)格，絕緣護(hù)套檢測(cè)投影儀多少錢(qián)被測(cè)工件y置于工作臺(tái)上,在透射反射照明下,它由物鏡0成放大實(shí)像y′(倒像)并經(jīng)光鏡m1與m2反射于投影屏p的磨沙面上。

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輪廓測(cè)量投影儀參數(shù)，哪里有測(cè)量線纜絕緣層投影儀，優(yōu)惠的測(cè)量投影儀

輪廓測(cè)量投影儀參數(shù)，哪里有測(cè)量線纜絕緣層投影儀，優(yōu)惠的測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門(mén)的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車(chē)間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。

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線纜厚度分析測(cè)量投影儀，最新電纜外被測(cè)量投影儀價(jià)格，最實(shí)惠機(jī)械測(cè)量投影儀

線纜厚度分析測(cè)量投影儀，最新電纜外被測(cè)量投影儀價(jià)格，最實(shí)惠機(jī)械測(cè)量投影儀是一種光、機(jī)、電一體化的精密高效光學(xué)計(jì)量?jī)x器。測(cè)量投影儀被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、儀表、鐘表、電子、電纜、橡膠、彈簧五金、建材、輕工等各行各業(yè)以及院校、研究所、計(jì)量檢定部門(mén)的計(jì)量室、試驗(yàn)室和生產(chǎn)車(chē)間。測(cè)量投影儀高效率地檢測(cè)各種形狀復(fù)雜工件的輪廓尺寸和表面形狀。

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4200A-SCS美國(guó)泰克TEK Keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀

美國(guó)泰克tek keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200a-scs ，加快半導(dǎo)體設(shè)備、材料和工藝開(kāi)發(fā)的探索、可靠性和故障分析研究。業(yè)內(nèi)領(lǐng)先性能參數(shù)分析儀，提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測(cè)量。

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CoreAFM瑞士Nanosurf 原子力顯微鏡

瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來(lái)實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.

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HMS3000，HMS5000韓國(guó)Ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)

韓國(guó)ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類(lèi)型。

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H5000美國(guó) MMR 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)

美國(guó) mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類(lèi)型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。

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KUP007，EMP100C，EMP100B，EMP50S半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)

半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s

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SCALA德國(guó)Mecwins 掃描式激光分析儀

德國(guó)mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。

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HS1000美國(guó)NANOVEA三維表面形貌儀

美國(guó)nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國(guó)際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。

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Y.Cougar SMT， Y.Cheetah德國(guó)YXLON 高分辨率Ｘ射線檢測(cè)設(shè)備

德國(guó) yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）

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Die Pick & Place Systems美國(guó)Royec芯片拾取及放置系統(tǒng)

美國(guó)royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)

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DE35-ST美國(guó)Royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)

美國(guó)royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.

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MT Century Curve Tracer美國(guó)RTI自動(dòng)特性圖示儀

美國(guó)rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專(zhuān)用夾具連接的接口。

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3D Nanofinger德國(guó)Klocke Nanotech 3D納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x

德國(guó)klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。

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