鍍膜機(jī)產(chǎn)品及廠(chǎng)家
法國(guó)plassys微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) ssdr 150 ，門(mén)用于合成 cvd 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學(xué)窗口。ssdr150 不斷優(yōu)化的微波及等離子體設(shè)計(jì)，是一款可靠的、穩(wěn)定的、長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行的金剛石薄膜生長(zhǎng)系統(tǒng)，能夠完美地適用于高？蒲泻推髽I(yè)生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-07-05
英國(guó)hhv桌上型濺射鍍膜儀bt150和bt300,新系列小型桌上系統(tǒng)，觸摸屏顯示控制，適合于sem及tem電鏡樣品制備及常規(guī)科研的全功能系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-07-05
日立hitachi 離子濺射儀 mc1000,采用lcd觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件,可處理較厚或較大的樣品(選配件),記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件.
更新時(shí)間:2025-07-05
美國(guó)neocera pld 脈沖激光沉積系統(tǒng) p180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法. ped 脈沖電子束沉積系統(tǒng) ped-180,是高能脈沖 (100ns) 電子束 ( 約 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透將近 1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對(duì)靶材的非平衡提。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學(xué)計(jì)量組成一致。在最佳條件下，靶材的化學(xué)計(jì)量與沉積
更新時(shí)間:2025-07-05
美國(guó)denton vacuum 金/碳鍍膜機(jī),用于大型工業(yè)生產(chǎn)、科研開(kāi)發(fā)和小規(guī)模制造。
更新時(shí)間:2025-07-05
英國(guó)oxford vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)vapour station 4,是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機(jī)無(wú)機(jī)多源有氣相分子沉積系統(tǒng)，高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機(jī)、金屬電阻蒸發(fā)及手 套箱保護(hù)條件下器件后期制作，主要用于有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能，研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)也可用于普通金屬電蒸發(fā)鍍膜究。
更新時(shí)間:2025-07-05
極域真空鍍膜系統(tǒng)以“真空性能”與“全域工藝覆蓋”為內(nèi)核，成為半導(dǎo)體、光學(xué)、新能源等制造領(lǐng)域的標(biāo)桿設(shè)備，助力客戶(hù)突破鍍膜技術(shù)瓶頸，實(shí)現(xiàn)“高精度、高效率、高回報(bào)”的智造升級(jí)。
更新時(shí)間:2025-07-01
新一代ems 150r鍍膜儀(真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀）采用最新技術(shù)研制而成，彩色觸摸液晶屏，快速的參數(shù)輸入，數(shù)種碳絲匹配，友好的用戶(hù)界面，帶給你不一般的操作感受！
更新時(shí)間:2025-06-26
ms150 t離子濺射鍍膜儀的機(jī)殼是整體成型的，結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用，配有氣冷的70l/s的渦輪分子泵，自動(dòng)進(jìn)氣控制保證了濺射期間最佳的真空水平，真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。ems150t具有“真空閉鎖”功能，可在設(shè)備不工作時(shí)維持腔室的真空度，從而保證高真空的性能。
更新時(shí)間:2025-06-26
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 霍爾離子源 eh 2000 是一款更強(qiáng)大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eh 1000 所有的性能, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 40 : 目 kri 射頻離子源 rficp 系列尺寸小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空腔體內(nèi). 離子源 rficp 40 設(shè)計(jì)采用創(chuàng)新的柵技術(shù)用于研發(fā)和開(kāi)發(fā)應(yīng)用. 離子源 rficp 40 無(wú)需電離燈絲設(shè)計(jì), 適用于通氣氣體是活性氣體時(shí)的工業(yè)應(yīng)用. 標(biāo)準(zhǔn)配置下 rficp 40 離子能量范圍 100 至 1200ev,
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 霍爾離子源 eh 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eh 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
更新時(shí)間:2025-06-24
美國(guó) kri 霍爾離子源 eh 系列緊湊設(shè)計(jì), 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eh 可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿(mǎn)足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù).
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 考夫曼型離子源 rficp 100 緊湊設(shè)計(jì), 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設(shè)計(jì)但是可以輸出 >400 ma 離子流. 考夫曼型離子源 rficp 100 源直徑19cm 安裝在10”cf 法蘭, 在離子濺鍍時(shí), 離子源配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學(xué)配合, 蝕刻更均勻. 標(biāo)準(zhǔn)配
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準(zhǔn)確控制多個(gè)磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國(guó) kri 離子源為客戶(hù)提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節(jié)省其制程腔體的抽氣時(shí)間, 進(jìn)而節(jié)省整體實(shí)驗(yàn)時(shí)間. 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽(yáng)能電池等行業(yè)以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理剝離成形電子束設(shè)備可以準(zhǔn)確的控制蒸發(fā)速度, 因此薄膜厚度和均勻度皆小于 ±3％, 客制化的基板尺寸, 大直徑可達(dá) 12寸晶圓, 腔體的限真空度約為 10-8 torr.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 140 是一款緊湊的有柵離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 rficp 140 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 就標(biāo)準(zhǔn)的型號(hào)而言, 可以在離子能
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理 syskey 臺(tái)灣矽碁科技超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備腔體限真空度約為 10-10torr, 針對(duì)超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷循環(huán)來(lái)保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性, 可以提供高質(zhì)量的薄膜, 薄膜均勻度小于 ±3％.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 220 高能量柵離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 rficp 220 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 rficp 220 離子能量范圍
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理 syskey 臺(tái)灣矽碁科技電子束蒸鍍?cè)O(shè)備是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng), 蒸鍍系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個(gè)坩堝來(lái)達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu). 在基板乘載上針對(duì)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì), 單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)可以控制蒸發(fā)速率, 薄膜厚度和均勻度小于 +/- 3％. 腔體的限真空度約為 10-8 torr. 為了獲得盡可能大的制程靈活性, 可以結(jié)合美國(guó) kri 離子源進(jìn)行離子輔助沉積或
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東美國(guó) kri 大口徑射頻離子源 rficp 380, 3層?xùn)旁O(shè)計(jì), 柵口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200ev 寬束離子束, 大離子束流 > 1000ma, 滿(mǎn)足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機(jī).
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 uhv sputter 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽(yáng)能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時(shí)間:2025-06-24
上海伯東代理原子層沉積設(shè)備可以精準(zhǔn)的控制 ald 的制程, 薄膜的厚度和均勻度皆小于 +/- 1％, 廣泛應(yīng)用于 oled 和硅太陽(yáng)能電池的鈍化層, 微機(jī)電系統(tǒng), 納米電子學(xué), 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜, 光學(xué)薄膜, 薄膜封裝技術(shù)等域.
更新時(shí)間:2025-06-24
leica em ace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計(jì)來(lái)根據(jù)您的fe-sem和tem應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時(shí)間:2025-06-24
英國(guó)hhv公司的hhv auto系列產(chǎn)品是一種多功能鍍膜設(shè)備（熱阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和濺射可選），設(shè)計(jì)用于滿(mǎn)足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto系列可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿(mǎn)足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。張先生 139-（#qq.com）聯(lián)系人：張先生 139-115145
更新時(shí)間:2025-06-23
美國(guó)cts公司提供的cts-6u型6kw微波等離子金剛石cvd系統(tǒng)具有高度可重復(fù)的真空完整性設(shè)計(jì)特點(diǎn)，能夠在接近大氣壓范圍內(nèi)運(yùn)行，用于高沉積速率的單晶工藝。它還可以合成高純度的高均勻性和大面積的單晶和多晶。腔室、觀(guān)察窗和沉積臺(tái)的設(shè)計(jì)與先進(jìn)的計(jì)算機(jī)過(guò)程控制相結(jié)合，具有無(wú)人值守的安全互鎖功能，可以獲得高可靠性、長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定性。cts-6u是最新一代cvd金剛石反應(yīng)器，專(zhuān)為滿(mǎn)足高產(chǎn)量、高質(zhì)量、高性?xún)r(jià)比的生
更新時(shí)間:2025-06-23
svt公司的樣品解理部件可以將15mm（其他尺寸可選）的方形樣品解理成15個(gè)1mm×15mm的bar條。所有解理出的bar條被收集到樣品托，堆疊在一起進(jìn)行下一步批量加工。獨(dú)特設(shè)計(jì)的解理工具避免了器件被破壞以及樣品互相黏在一起的可能性。此解理工具可適用于uhv環(huán)境。解理機(jī)可以增加鈍化層沉積模塊。解理后堆疊在一起的bar條直接進(jìn)入鈍化室，不用暴露大氣。
更新時(shí)間:2025-06-23
歐尼卡onick am-38帶彩信版野生動(dòng)物紅外監(jiān)測(cè)相機(jī)支持3000萬(wàn)像素高清拍照，4k高清視頻拍攝。儀器啟動(dòng)反應(yīng)快，成像清晰，色彩真實(shí)。大可支持256gb sd存儲(chǔ)卡，兼容各種品牌。可搭載我司自主研發(fā)的云平臺(tái)圖像處理系統(tǒng)（軟著登記號(hào)：2022sr0370995），對(duì)抓拍到的圖片及視頻進(jìn)行識(shí)別與分析，還可搭配手機(jī)app遠(yuǎn)程控制相機(jī)（軟著登記號(hào)：2022sr0370994），遠(yuǎn)程控制修改參數(shù)，
更新時(shí)間:2025-06-23
上海到漢中物流公司 從上海貨運(yùn)到漢中需要多少錢(qián)？貨運(yùn)公司哪家好?推薦漢中物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風(fēng)雨無(wú)阻，公司專(zhuān)業(yè)承接；
更新時(shí)間:2025-06-22
xf803-931浸漬提拉鍍膜機(jī)是適用于溶膠-凝膠法（sol--gel法，簡(jiǎn)稱(chēng)sg法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進(jìn)口配件，精準(zhǔn)控制提拉速度，多次重復(fù)鍍膜無(wú)位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時(shí)間均可以通過(guò)程序精確控制。適用于玻璃、si（100）、si（111）、藍(lán)寶石（al2o3）、瓷片以及樹(shù)脂基板等常用基板。
更新時(shí)間:2025-06-22
jc503-eb100提拉鍍膜機(jī)是一款基本型提拉鍍膜機(jī)，可自動(dòng)完成在鍍膜溶液中多次鍍膜之需求，重復(fù)鍍膜次數(shù)可達(dá)999次。所有運(yùn)行參數(shù)如運(yùn)行速度，提拉/浸漬高度，浸漬時(shí)間，間隔時(shí)間，重復(fù)鍍膜次數(shù)等均可在觸屏上方便設(shè)置。
更新時(shí)間:2025-06-22
用于測(cè)定棉、毛、絲、麻、化纖等紗線(xiàn)的捻度。性能符合gb/2543.1和gb/t2543.2的規(guī)定。
更新時(shí)間:2025-06-22
xf801-150mm 六工位旋轉(zhuǎn)提拉鍍膜機(jī)浸漬提拉過(guò)程中按配方任意間隔旋轉(zhuǎn)
更新時(shí)間:2025-06-22
運(yùn)行平穩(wěn)無(wú)抖動(dòng)，液面無(wú)振動(dòng)，可保證設(shè)備的穩(wěn)定性以及成膜的均勻性。 · 自主研發(fā)的程序控制系統(tǒng)，簡(jiǎn)潔明了、操作方便。
更新時(shí)間:2025-06-22
本產(chǎn)品是根據(jù)國(guó)標(biāo)gb/t21719-2008《稻整精米率檢驗(yàn)法》*新研制，是制定國(guó)家稻谷標(biāo)準(zhǔn)中整精米率數(shù)據(jù)的*指定儀器。
更新時(shí)間:2025-06-22
比利時(shí)almeco鼓風(fēng)機(jī)，德國(guó)總部直接采購(gòu)，原裝，貨期，支持技術(shù)選型，為您提供一對(duì)一優(yōu)勢(shì)解決方案：赫爾納大連公司在中國(guó)設(shè)有10個(gè)辦事處，可為您提供的維修服務(wù)。
更新時(shí)間:2025-06-13
縱向式cat-cvd設(shè)備ccv系列ccv series是a-si鍍膜用的縱向式cvd設(shè)備。有30年以上的量產(chǎn)實(shí)績(jī)。在各個(gè)chamber通過(guò)低壓鍍膜，得到高品質(zhì)的膜質(zhì)。
更新時(shí)間:2025-06-13
枚葉式pecvd設(shè)備cme-200e/400枚葉式pe-cvd設(shè)備cme-200e/400是適用于si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產(chǎn)用pecvd設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-06-13
load-lock式plasma cvd設(shè)備 cc-200/400load-lock式plasma cvd設(shè)備cc-200/400是小型的使用便利的可對(duì)應(yīng)從研究開(kāi)發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-06-13
枚葉式等離子cvd設(shè)備cmd系列cmd系列是用sih4和teos成膜的a-si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式cvd設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-06-13
技術(shù)參數(shù)：l自動(dòng)的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和佳的導(dǎo)電噴鍍效果。l通過(guò)高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過(guò)程，避免樣品表面受損。
更新時(shí)間:2025-06-13
實(shí)驗(yàn)室流延薄膜機(jī) 單螺桿擠出機(jī) 小型流延薄膜機(jī)型號(hào)：aod-xh-432 設(shè)備規(guī)數(shù) 型號(hào)aod-xh-25 單螺桿擠出機(jī) 機(jī)架采用型鋼焊接而成,并經(jīng)回應(yīng)力處理,有較高的鋼性,變形小。料筒及螺桿 標(biāo)配：3d混煉頭帶分散性單螺桿料筒及螺桿
更新時(shí)間:2025-06-13
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv_sp-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射鍍膜儀，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，變換鍍膜頭非常簡(jiǎn)單。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免交叉污染。標(biāo)配ftm膜厚監(jiān)測(cè)裝置。
更新時(shí)間:2025-06-03
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv_ct-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的熱蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，變換鍍膜頭非常簡(jiǎn)單。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理(可選項(xiàng))。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免交叉污染。ccu-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。
更新時(shí)間:2025-06-03
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，通過(guò)簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。ccu-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。
更新時(shí)間:2025-06-03
最新產(chǎn)品
- 海洋平臺(tái)UHPC攪拌設(shè)備 歷史建筑加固UHPC攪拌機(jī) 2025/7/5 22:53:54
- 預(yù)制構(gòu)件UHPC攪拌系統(tǒng) 核電防護(hù)UHPC攪拌機(jī) 2025/7/5 22:52:34
- 裝配式建筑UHPC攪拌設(shè)備 高鐵基建UHPC攪拌機(jī) 2025/7/5 22:51:01
- 橋梁工程UHPC攪拌機(jī) 隧道工程UHPC濕粉攪拌系統(tǒng) 2025/7/5 22:50:10
- 濕法UHPC攪拌系統(tǒng) UHPC攪拌站設(shè)備 2025/7/5 22:49:24
- 常德安全制動(dòng)器3SH焦作液壓失效保護(hù)制動(dòng)器剎車(chē)片配件 2025/7/5 22:09:53
- 通遼液壓直動(dòng)制動(dòng)器ADH60焦作科邁盤(pán)式制動(dòng)器剎車(chē)片配件廠(chǎng)家 2025/7/5 21:59:18
- 臨床病人使用的全胸多頻震蕩排痰機(jī) 2025/7/5 20:05:41
- 醫(yī)療機(jī)構(gòu)使用的全胸多頻震蕩排痰機(jī) 2025/7/5 20:05:16
- 物理排痰全胸多頻震蕩排痰機(jī) 2025/7/5 20:02:46
- 全胸多頻震蕩排痰機(jī)適用科室 2025/7/5 20:02:21
- 全胸多頻震蕩排痰機(jī)技術(shù)參數(shù) 2025/7/5 20:01:53
- 重癥患者用的全胸多頻震蕩排痰機(jī) 2025/7/5 20:01:26
- ICU使用的全胸多頻震蕩排痰機(jī) 2025/7/5 19:58:22
- 呼吸科用的全胸多頻震蕩排痰機(jī) 2025/7/5 19:57:51
- 醫(yī)用全胸多頻震蕩排痰機(jī) 2025/7/5 19:57:26
- 穿戴式振動(dòng)排痰機(jī)廠(chǎng)家 2025/7/5 19:56:05
- 西安工業(yè)冷卻塔供應(yīng)中 2025/7/5 19:46:03
- 小鼠腎上腺素能受體β激酶1(ADRβK1)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:23:36
- 小鼠腺苷酸環(huán)化酶5(ADCY5)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:23:25
- 小鼠表面活性物質(zhì)關(guān)聯(lián)蛋白D(SPD)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:23:08
- 小鼠髓細(xì)胞觸發(fā)受體1(TREM1)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:22:52
- 小鼠視錐蛋白樣蛋白1(VSNL1)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:22:38
- 小鼠核糖核酸酶A7(RNASE7)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:22:25
- 小鼠含Ⅲ型纖連蛋白域蛋白5(FNDC5)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:22:07
- 小鼠含亮氨酸豐富重復(fù)蛋白4B(LRRC4B)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:21:55
- 小鼠腎上腺髓質(zhì)素(ADM)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:21:43
- 小鼠核糖核酸酶H(RNASEH)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:21:31
- 小鼠核糖體結(jié)合糖蛋白Ⅰ(RPN1)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:21:17
- 小鼠核苷酸還原酶M1(RRM1)酶聯(lián)免疫吸附測(cè)定試劑盒 2025/7/5 17:20:58