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（超）純水器產品及廠家

單晶硅去離子水設備_EDI超純水機
單硅晶體超純水設備主要作用是用于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物，這些雜質有的是以原子狀態(tài)、離子狀態(tài)、薄膜形式、顆粒形式存在與硅片的表面。
更新時間:2025-07-18
多晶硅反滲透超純水機_實驗室超純水系統(tǒng)
硅片是現(xiàn)代半導體行業(yè)不可或缺的基礎材料，而在硅片的生產過程中會有許多的污染物質干擾產品的質量，所以半導體器件的生產硅片需要進行嚴格的清洗，通過清洗去除掉表面的污染雜質，包括有機物和無機物等，否則微量元素的污染會導致半導體器件失效。
更新時間:2025-07-18
電子超純水超純水生產設備
電子行業(yè)超純水系統(tǒng)是利用現(xiàn)在先進的電子技術進行提煉純水系統(tǒng)，它根據原水的水質情況，對原水進行脫鹽處理，由于電子行業(yè)對于水中的離子含量要求非常高，所以我們公司的超純水系統(tǒng)也是選擇先進的反滲透技術，搭配業(yè)內的edi設備，混床技術，使得產生水質可達到18.25mω•cm，水質可符合國內外用水標準。
更新時間:2025-07-18
集成電路ro反滲透純水機_純水系統(tǒng)
在大規(guī)模的集成電路超純水水質中，優(yōu)先獲得關注的水質指標為：電阻率、toc、硅、微粒、重金屬、溶解氧、堿金屬等，這類物質會溶于水中，而在集成電路芯片的制造過程中，使用的水質中所含離子成分越多，則對產品的制造工藝的影響越大，使得產品良率降低。
更新時間:2025-07-18
滲源SYBJ 實驗室超純水設備廠家,反滲透純水機,純水設備反滲透
edi水處理技術是近年來被應用最為廣泛的純水超純水制備技術，該技術將電滲析與離子交換技術進行融合，通過陰陽離子間的交換膜對陰陽離子的選擇性透過作用與離子交換樹脂對離子的交換作用運用到水處理中，在直流電場的作用下實現(xiàn)離子的定向遷移，從而完成水的深度除鹽，水質可達15mω.cm以上。
更新時間:2025-07-18

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