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光學平臺產(chǎn)品及廠家
Pioneer 180-2-PLD美國Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)
美國neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
Pioneer 180-2-PLD氮化鎵支撐片,晶片,硅片
2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
AS-ONE法國Annealsys 高溫退火爐
法國annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設備,適用于硅,化合物半導體,太陽能電池& mems.
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
ELS-F125日本Elionix微細加式電子束曝光電子束直寫機
日本elionix 微細加式電子束曝光電子束直寫機els-f125,是elionix推出的上臺加速電壓達125kv的電子束曝光系統(tǒng),其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
ELS-F150日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng)
日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第 個150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設備制造。
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
ELS-BODEN日本Elionix電子束光刻機
els-boden 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400mhz頻率生產(chǎn)
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
μMLA海德堡桌面無掩模光刻機
日本電子 jsm-7610fplus,用于納米科學的肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡, 是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無掩模光刻機
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
DWL 66+德國海德堡 激光直寫光刻機
dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊,實現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結(jié)構(gòu)上進行灰度曝光
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
MLA150德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機
德國海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機 mla150,德國高精密激光直寫繪圖機,非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
OCTOPLUS 500德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質(zhì)量的iii/v族或者ii-vi族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標準的octoplus 500有11個呈放射狀分布的源孔,可以根據(jù)需要增選3個源孔。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
EM TXP德國Leica 全新精研一體機
德國leica em txp全新精研一體機,是一款獨特的可對目標區(qū)域進行精確定位的表面處理工具,特別適合于sem,tem及l(fā)m觀察之對樣品進行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品,如需要對目標精細定位或需對肉眼難以觀察的微小目標進行定點處理。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
VK-X3000基恩士KEYENCE形狀測量激光顯微系統(tǒng)
keyence 基恩士 形狀測量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000,納米 / 微米 / 毫米,一臺即可完成測量。292 種分析工具,一臺即可了解希望獲取的信息。一臺即包含了光學顯微鏡,臺階儀,光學輪廓儀,及電鏡功能。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
OCTOPLUS 400德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
日本rion液體光學顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍,可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng),非常適合于iii/v族, ii/vi族,及其他復合半導體材料應用。兼容2-4英寸標準晶片。豎直分割式腔體設計,可以裝配各種源爐,實現(xiàn)不同材料分子束外延生長。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
RTP-150德國UnitemP真空快速退火爐
德國unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓,150mm,快升溫速率可達150k/s
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
HERCULES NIL奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg的hercules nil 300 mm是一個完全集成的納米壓印系統(tǒng),是evg的nil產(chǎn)品組合的新成員。 hercules nil基于模塊化平臺,在單個平臺上將清洗模塊,抗蝕劑涂層模塊和烘烤預處理模塊與evg的有smartnil大面積納米壓。╪il)模塊結(jié)合在一起,用于直徑大為300 mm的晶片。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
EVG720奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。evg720自動納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KS-42CRion 液體光學顆粒度儀
液體光學顆粒度儀 ks-42c,寬廣的測試范圍,可測試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
8600系列美國 Lakeshore 振動樣品磁強計
美國 lakeshore 振動樣品磁強計 8600系列:model 8604, model 8607, 更科學,更高效
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
CHEETAH EVO德國YXLON 定制化的標準X射線檢測系統(tǒng)
德國yxlon 定制化的標準x射線檢測系統(tǒng)cheetah evo,為封裝檢測、半導體及實驗室應用量身定制、
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
COUGAR EVO德國YXLON 定制化的緊湊型標準X射線檢測系統(tǒng)
德國yxlon 定制化的緊湊型標準x射線檢測系統(tǒng)cougar evo ,為封裝檢測、半導體及實驗室應用量身定制
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
HMS-7000韓ECOPIA變溫光霍爾效應測試儀
韓ecopia 變溫光霍爾效應測試儀 hms-7000,可以通過改變照射在樣品上的不同波長范圍的光源(紅、綠、藍光源), 得出載流子濃度、遷移率、電阻率及霍爾系數(shù)等半導體電學重要參數(shù)隨光源強度變化的曲線。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KL-05日本RION光遮蔽粒子計數(shù)器
日本rion光遮蔽粒子計數(shù)器 kl-05,(光滲透法),可測試粒徑范圍:1~20個通道范圍,1.3μm~100(0.1μm的間隔)大粒子數(shù)濃度:10 000 顆/l (誤差值低于10%)
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KS-93日本RION液體光學顆粒度儀
日本rion液體光學顆粒度儀:ks-93( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:30 000 顆/l (誤差值低于5%),粒徑范圍(5個通道):≥0.1μm, ≥0.15μm , ≥0.2μm , ≥0.3μm, ≥0.5μm, ≥25μm
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KC-22A日本RION粒子計數(shù)器
日本rion粒子計數(shù)器:kc-22a ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10000顆/l (誤差值低于5%),可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KC-22B日本RION粒子計數(shù)器
日本rion粒子計數(shù)器:kc-22b ( 光散射法),液體粒子計數(shù)器,可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KC-31日本RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器kc-31 ( 光散射法),測試粒徑(6個通道),大粒子數(shù)濃度:28000000 顆/l
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KC-32日本RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:kc-32 ( 光散射法)測試粒徑(6個通道):≥0.3μm, ≥0.5μm , ≥1μm , ≥2μm, ≥5μm, ≥10μm
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KC-20A日本RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:kc-20a ( 光散射法),測試粒徑(5個通道):≥10μm, ≥20μm , ≥30μm , ≥50μm, ≥100μm
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KA-05日本RION粒子計數(shù)器
日本rion粒子計數(shù)器:ka-05( 光散射方式),多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑(2個通道):≥0.5μm , ≥5.0μm
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KE-18FX日本RIO液體粒子計數(shù)器
日本rio液體粒子計數(shù)器ke-18fx ( 光散射法),測試粒徑(4個通道):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm,
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KS-42D日本RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion液體光學顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:10 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(8個通道,出廠默認):≥2μm, ≥3μm , ≥5μm , ≥7μm, ≥10μm, ≥25μm , ≥50μm , ≥100μm(可選 ≥150μm)
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KL-30AX日本RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion粒子計數(shù)器:kl-30ax ( 光散射法),大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個通道,工廠標配):≥0.04μm, ≥0.08μm , ≥0.1μm , ≥0.15μm
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KL-30A日本理音RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:kl-30a ( 光散射法), 測純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:15 000 顆/l (誤差值低于10%), 粒徑范圍(4個通道,出廠設置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KL-30B日本理音RION 氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:kl-30b ( 光散射法), 測純水,可打印。大粒子數(shù)濃度:200 000 顆/l (誤差值低于10%),粒徑范圍(4個通道,出廠設置):≥0.05μm, ≥0.1μm , ≥0.15μm , ≥0.2μm
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KC-51日本理音RION 手持式粒子計數(shù)器
日本rion 手持式粒子計數(shù)器:kc-51( 光散射方式),大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KC-52日本理音RION 手持式粒子計數(shù)器
日本rion 手持式粒子計數(shù)器:kc-52( 光散射方式),粒徑范圍:5個通道: 0.3μm , 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/m³ (誤差值低于10%)
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KA-02日本理音RION 氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:ka-02( 光散射方式),多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑(2個通道):≥0.3μm , ≥0.5μm,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KA-03日本理音RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:ka-03( 光散射方式),多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑(5個通道):≥0.3μm , ≥0.5μm ,≥1μm , ≥2μm ,≥5μm ,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
KA-82日本理音RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:ka-82( 光散射方式),多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑(5個通道):≥0.1μm , ≥0.15μm, ≥0.2μm , ≥0.3μm , ≥0.5μm ,大粒子數(shù)濃度:10 000顆/l (誤差值低于5%)
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
綠光納鉆孔設備Standard Drilling Machine綠光納鉆孔設備
玻璃去油墨設備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進行去油墨以及油墨微加工, 將產(chǎn)品損傷降至低。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
OAI 800 MBA美國OAI光刻機
oai 800型光學正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學正面和背面光刻機。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大超過任何紅外背后對準器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實驗室和大學。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
NanoFrazor 3D瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫機機
瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機,源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機第 一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
M160中國nanoArch科研3D打印機
nanoarch科研3d打印機m160 ,本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng),兼顧高精度和多材料打印,可支持同時打印4種樹脂基復合材料進行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印,適用于基礎理論驗證及原理創(chuàng)新研究,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應用創(chuàng)新。其主要應用在點陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復合材料、復雜微流控,多材料4d打印等方面。
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
P130/S130中國nanoArch科研3D打印機
nanoarch微納3d打印機 p130/s130 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
P140/S140中國nanoArch科研3D打印機
nanoarch 3d打印機p140/s140 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:
2025-07-02
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
KZ-30UK理音RION 采樣器統(tǒng)
理音rion kz-30uk采樣器,易于操作的室內(nèi)化學采樣器,當腔體壓力過高的時候, 可以排凈空氣,防止發(fā)生故障 ,設計簡單的化學防爆采樣器,kz-30uk的設計是可以為 離線測試的液體粒子計數(shù)器提供加壓。
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng):nte-4000 獨立式電子束蒸鍍,nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍,nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng),nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
更新時間:
2025-07-02
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NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)
美nano-master磁控濺射系統(tǒng):nsc-4000獨立式磁控濺射系統(tǒng),可支持共濺射等能力的擴展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍,可以支持金屬材料的dc濺射,介質(zhì)材料的rf濺射,以及脈沖dc濺射等應用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng),不但可用于電鏡制備,也可以用于常規(guī)的金屬濺射
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2025-07-02
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NPE-4000NANO-MASTER的等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)
nano-master的等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜;蹇梢匀菁{8英寸晶圓,可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓,可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
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2025-07-02
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NEE-4000美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000,可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍,并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片,以及手動或自動翻轉(zhuǎn)樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng),也可以跟磁控濺射
更新時間:
2025-07-02
該公司產(chǎn)品分類:
深圳市藍星宇電子科技有限公司
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